반도체
반도체 제조 공정 중 주요 배관 구간 내 파이프 디파짓 상태를 실시간으로 모니터링하는 계측 솔루션을 제공합니다. 주요 진공 배관의 오염과 이상 신호를 조기에 감지하여 생산 효율과 품질 안정성을 높입니다.
SYSTEM READY
ID: 63F0B4F1-5C7B-451A-AC80-FB6A5E7FFC7C
LIVE FEED_01
/// System Analysis
실시간성
01
배기라인 내 디파짓 축적 실시간 감지 및 알람
예방 정비
02
배관 막힘 사전 예측을 통한 다운타임 최소화
공정 안정성
03
일정한 배기 성능 유지로 공정 품질 확보
운영비 절감
04
불필요한 배기라인 청소 주기 최적화
Process Integration
FLOW_CHART_V1.2
Input
Scanning
Analysis
Output
파이프라인 디파짓 모니터링
Product Series
SELECT MODULE TO VIEW SPECIFICATIONS
Module Description
주요 배관구간은 공정 장비에 진공을 형성하고 가스를 공급하는 핵심 인프라로, 장비의 안정적 운전과 제품 품질 유지에 직접적인 영향을 미칩니다. 이 구간은 공정 부산물과 오염물의 축적이 발생하기 쉬운 영역으로, 오염이 누적되면 공정 수율 저하, 장비 이상, 불량률 증가로 이어질 수 있어 정밀한 모니터링과 주기적인 관리가 필수적입니다.
